【武漢純水設(shè)備】集成電路生產(chǎn)用超純水

在集成電路生產(chǎn)中，超純水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，其中包括硅片氧化的水汽源，部分設(shè)備的冷卻水，配制電鍍液等。

集成電路生產(chǎn)過(guò)程中大量工序需要使用超純水，其水質(zhì)與集成電路的產(chǎn)品質(zhì)量及生產(chǎn)成品率關(guān)系很大。

水中的堿金屬（K、Na等）會(huì)使絕緣膜耐壓不良，重金屬 （Au、Ag、Cu等）會(huì)使PN結(jié)耐壓降低，Ⅲ族元素（B、Al、Ga等）會(huì)使N型半導(dǎo)體特性惡化，Ⅴ族元素（P、As、Sb等）會(huì)使P型半導(dǎo)體特性惡化，水中細(xì)菌高溫碳化后的磷（約占灰分的20-50%）會(huì)使P型硅片上的局部區(qū)域變?yōu)?span lang="EN-US">N型硅而導(dǎo)致器件性能變壞，水中的顆粒（包括細(xì)菌）如吸附在硅片表面，就會(huì)引起電路短路或特性變差。

超純水中的各種離子化合物已去除至極低，電阻率最大能達(dá)到18.25MΩ.cm，滿足集成電路生產(chǎn)工藝要求。武漢反滲透純水設(shè)備 武漢EDI超純水處理設(shè)備 武漢工業(yè)純水設(shè)備 武漢實(shí)驗(yàn)室超純水設(shè)備 武漢純化水設(shè)備